日立（Hitachi）扫描电镜

品牌：日立（Hitachi）    型号：SU9000      产地：Japan

二次电子图象分辨率：0.4nm@30kV,1.2nm@1kV

放大倍数：220~8,000,000

仪器种类：场反射

加速电压：0.5~30kV

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。

全新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。

0.4nm / 30kV（SE）

1.2nm / 1kV（SE）

0.34nm / 30kV（STEM）

用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现高效率截面观察。

采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

品牌：日立（Hitachi）    型号：SU9000      产地：Japan

二次电子图象分辨率：0.4nm@30kV,1.2nm@1kV

放大倍数：220~8,000,000

仪器种类：场反射

加速电压：0.5~30kV

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，

高分辨成像所设计。

全新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。

0.4nm / 30kV（SE）

1.2nm / 1kV（SE）

0.34nm / 30kV（STEM）

用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现高效率截面观察。

采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。